阎桂珍
【姓名】 阎桂珍
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 高速CMOS电路,硅栅,硅深槽,背栅,薄膜全耗尽,硅膜,CMOS电路,刻蚀技术,刻蚀速率,MOS管,Latch,绝缘体上硅,沟道长度,正胶,CAD模拟,全耗尽,保护电路,侧壁,宽长比,氧化硅,负载电容...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京
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[2]张太平,阎桂珍,张大成,阮勇,陈正豪,邢怡铭.MEMS方法制造小型PEM燃料电池电极[J]仪器仪表学报.2004,(S2)
[3]林兆军,张太平,武国英,王玮,阎桂珍,孙殿照,张建平,张国义.Au-GaN肖特基结的伏安特性[J]半导体学报.2000,(04)
[4]奚雪梅,张兴,倪卫华,阎桂珍,王阳元.超高速CMOS/SOI51级环振电路的研制[J]电子学报.2000,(05)
[5]顾毓沁,张荣海,朱德忠,孙晓毅,阎桂珍,唐祯安,Philip C.H. Chan,Johnny K.O. Sin,I-Ming Shing.微热板的热测试和热分析[J]工程热物理学报.2001,(02)
[6]钱钢,张利春,阎桂珍,王咏梅,张大成,王阳元.一种新的硅深槽刻蚀技术研究[J]半导体学报.1994,(01)
[7]魏丽琼,程玉华,孙玉秀,阎桂珍,李映雪,武国英,王阳元.硅膜厚度和背栅对SIMOX/SOI薄膜全耗尽MOSFET特性影响的研究[J]半导体学报.1995,(03)
[8]程玉华,魏丽琼,孙玉秀,阎桂珍,李映雪,武国英,王阳元.薄膜全耗尽SIMOX/SOIMOSFET中单晶体管Latch引起的器件性能蜕变实验研究[J]半导体学报.1995,(07)
[9]魏丽琼,程玉华,孙玉秀,阎桂珍,李映雪,武国英,王阳元.薄膜全耗尽SOI MOSFET单晶体管Latch效应[J]微电子学与计算机.1995,(02)
[10]张利春,倪学文,沈悌明,阎桂珍,张录,吉力久,冯初光,张蔷.5μm封闭硅栅高速CMOS电路[J]北京大学学报(自然科学版).1985,(05)
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[1]张太平;阎桂珍;张大成;阮勇;陈正豪;邢怡铭;.MEMS方法制造小型PEM燃料电池电极[A].中国仪器仪表学会第六届青年学术会议论文集.2004-06-30
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