蔡学榆
【姓名】 蔡学榆
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 超导体,多层膜,邻近效应,Cu多层膜,磁通线,临界温度,扩散膜,Sn膜,钉扎机制,TEM样品,钉扎中心,高场,钉扎,异质界面,超导材料,超导薄膜,晶界,TEM观察,能隙,临界电流,钉扎作用,道乐,格子...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京海淀
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[1]蔡学榆,尹道乐.多层膜超导体的邻近效应[J]物理学报.1981,(05)
[2]蔡学榆;李传义;尹道乐;.国产A-15超导材料高场临界电流的脉冲场测量[J]制冷学报.1982,(04)
[3]蔡学榆,尹道乐.Nb-Cu多层膜超导体临界温度的计算[J]物理学报.1983,(05)
[4]蔡学榆,尹道乐,李传义.A-15超导材料的高场钉扎机制[J]物理学报.1983,(09)
[5]蔡学榆;马长林;张金龙;李传义;尹道乐;.扩散Nb_3Sn膜晶粒非均匀性与位错界面的电子显微观察[J]电子显微学报.1984,(04)
[6]蔡学榆,李传义,尹道乐.超导体临界电流的脉冲场测量[J]制冷学报.1985,(02)
[7]张金龙,蔡学榆,李传义,马长林,尹道乐,朱宜.大面积扩散Nb_3Sn超导薄膜TEM样品的制备及TEM观察[J]低温物理学报.1986,(01)
[8]蔡学榆,李传义,张金龙,尹道乐.Nb_3Sn扩散薄膜的研究[J]物理学报.1986,(05)
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[1]蔡学榆;马长林;张金龙;李传义;尹道乐;.扩散Nb_3Sn膜晶粒非均匀性与位错界面的电子显微观察[A].第三次中国电子显微学会议论文摘要集（二）.1983-06-30
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