任国利
【姓名】 任国利
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 超导薄膜,MgB2,脉冲激光沉积法,原位后退火,MgB2相,热稳定性,制备过程,退火效应,实验研究,超导电性,退火温度,沉积温度,退火时间,扫描电子显微镜,临界转变温度,晶体结构,温度曲线,超导体,磁...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京
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[1]任国利,张撷秋,聂瑞娟,王守证,王福仁.脉冲激光沉积法原位后退火生长MgB_2薄膜的研究[J]北京大学学报(自然科学版).2005,(05)
[2]张撷秋,任国利,聂瑞娟,王守证,王福仁.MgB_2制备过程中退火效应和热稳定性的实验研究(英文)[J]北京大学学报(自然科学版).2005,(05)
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