斯瓦德科夫斯基
【姓名】 斯瓦德科夫斯基
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 端部霍尔离子源,离子束辅助,永久磁场,镀膜,离子束,离子源,两种模式,栅网,电磁场,离子能量,放电电压,光学膜层,工作稳定性,阳极电压,电磁场模式,流密度,等离子体离子源,正偏压,正向偏压,分布特性,
【工作单位】 白俄罗斯无线电信息大学
【曾工作单位】 白俄罗斯无线电信息大学;
【所在地域】
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[1]潘永强,朱昌,方勇,斯瓦德科夫斯基,达斯坦科.用于离子束辅助镀膜的两种模式端部霍尔离子源的比较[J]真空.2004,(05)
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[1]潘永强;朱昌;方勇;斯瓦德科夫斯基;达斯坦科;.两种模式端部霍尔等离子体源的比较[A].中国真空学会第六届全国会员代表大会暨学术会议论文摘要集.2004-11-01
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