沈达身
【姓名】 沈达身
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氧化铪,SOI材料,HRTEM,离子束,上海微系统与信息技术研究所,高k材料,后氧化,薄膜样品,IBED,栅介质,扩展电阻探针,高质量,退火处理,近化学计量比,重点实验室,信号峰,增强沉积,掠角,X射...
【工作单位】 阿拉巴马大学
【曾工作单位】 阿拉巴马大学;
【所在地域】 美国
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[1]邢玉梅,陶凯,俞跃辉,郑志宏,杨文伟,宋朝瑞,沈达身.在SOI材料上制备高质量的氧化铪薄膜[J]功能材料.2004,(06)
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