Reimund
【姓名】 Reimund
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 压电活性的热稳定性,空间电荷驻极体,聚四氟乙烯多孔膜,充电参数,压电性,电活性,多孔膜,聚四氟乙烯,IEEE,固体物理,Report,同济大学,驻极体,空间电荷,双层膜,PTFE多孔膜,铁电聚合物,氟...
【工作单位】 Potsdam大学
【曾工作单位】 Potsdam大学;
【所在地域】
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[1]夏钟福,马珊珊,朱伽倩,邱勋林,张冶文,Reimund Gerhard-Multhaupt,Wolfgang Kuenstler.聚四氟乙烯多孔膜的压电活性及其稳定性[J]物理学报.2003,(08)
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