刘道新
【姓名】 刘道新
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 镀层,Cr-N,离子束增强沉积,轰击能量,膜层组织,离子束增强,氮离子,组织结构,沉积工艺,氮分压,镀层组织,溅射,参数对,电子结合能,择优生长,离子轰击,衍射峰,镀层硬度,单晶片,相组,
【工作单位】 西安交通大学
【曾工作单位】 西安交通大学;
【所在地域】
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[1]唐宾,刘道新,胡奈赛,何家文.离子束增强沉积工艺参数对Cr-N膜层组织结构的影响[J]无机材料学报.1999,(04)
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