廖军
【姓名】 廖军
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 过程控制,侧蚀,处理参数,印制板,体层,氯化物,传输速度,pH值,试剂,蚀刻剂,氧气,补充液,温度,蚀刻速率,铜含量,NH4OH,蚀刻机,抗蚀剂,光致抗蚀剂,集液槽,
【工作单位】 江南计算技术研究所
【曾工作单位】 江南计算技术研究所;
【所在地域】
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[1]翁雷;廖军;孙国强;.电子产品可靠性增长试验综述[J]环境技术.2018,(01)
[2]廖军,张杭贤.碱性蚀刻的过程控制[J]印制电路信息.2005,(06)
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