洪伟
【姓名】 洪伟
【职称】 高级工程师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】 光学薄膜的研制
【发表文献关键词】 类金刚石膜,射频等离子放电沉积,End-Hall源,边缘效应,沉积方式,离子源,工作原理,透过率,工作气体,等离子体,基片,膜层性能,惰性气体,离子束沉积,使用寿命,表面质量,薄膜材料,工作真空度,沉...
【工作单位】 中国航天科工集团第三研究院
【曾工作单位】 中国航天科工集团第三研究院;
【所在地域】 天津
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中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]洪伟;赵友博;张铁群;.采用End-Hall源沉积类金刚石膜[J]光学仪器.2006,(05)
[2]洪伟;赵友博;张铁群;隋承林;.热压硫化锌基底上类金刚石膜的设计与实现[J]光电技术应用.2007,(06)
[3]洪伟;赵友博;张铁群;.End—Hall源沉积类金刚石膜的实验[J]南开大学学报(自然科学版).2008,(01)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]洪伟;宋洪君;季一勤;李谨;.类金刚石膜的应用和发展[A].TFC’03全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2003-09-01
[2]洪伟;赵友博;张铁群;.采用End-Hall源沉积类金刚石膜[A].中国光学学会2006年学术大会论文摘要集.2006-09-01
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