张楷亮
【姓名】 张楷亮
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 IC制造工艺技术及相关纳米材料研究
【发表文献关键词】 化学机械抛光,抛光液,超大规模集成电路,铜表面,多层互连,ULSI,研究与展望,平坦化,特大规模集成电路,铜布线,互连工艺,抛光速率,抛光机理,介电层,化学机械,高成品率,抛光技术,氧化物,模型及应用...
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/2 2 2 1 52 997
中国期刊全文数据库    共找到2篇
[1]张楷亮,宋志棠,封松林,Chen Bomy.ULSI化学机械抛光的研究与展望[J]微电子学.2005,(03)
[2]陈苏,张楷亮,宋志棠,封松林.多层互连工艺中铜布线化学机械抛光研究进展[J]半导体技术.2005,(08)
更多