朱涛
【姓名】 朱涛
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 极紫外光刻,工件台,真空,套刻精度,扫描同步,运行精度,动态定位,成像质量,加速度,工作原理,重要因素,掩模台,关键技术,发展现状,晶片,光刻机,真空环境,同步扫描,磁悬浮,气浮导轨,
【工作单位】 中国科学院电工研究所
【曾工作单位】 中国科学院电工研究所;
【所在地域】 北京
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[1]朱涛;李艳秋;.极紫外光刻机工件台设计及仿真(英文)[J]纳米技术与精密工程.2005,(04)
[2]朱涛,李艳秋.极紫外光刻真空工件台技术研究[J]微细加工技术.2005,(01)
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