杨剑辉
【姓名】 杨剑辉
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 TiN薄膜,靶中毒,反应溅射,生长速率,速率模型,溅射制备,反应粒子,源粒子,粒子,固体电子学,溅射,靶面,反应室,粒子浓度,薄膜生长,底表面,靶粒子,真空机组,中性粒子,华中理工大学,输运过程,宏观...
【工作单位】 华中理工大学
【曾工作单位】 华中理工大学;
【所在地域】 武汉
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[1]王宇,张丽娜,陈忠财,李振香,胡慧娟,杨剑辉,王敬义.反应溅射制备TiN薄膜的生长速率模型研究[J]微细加工技术.1997,(01)
[2]王敬义,杨剑辉,胡慧娟,陈忠财,张丽娜,李振香,王宇,王颖.反应溅射制备TiN薄膜的靶中毒模型研究[J]微细加工技术.1997,(01)
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