刘珠明
【姓名】 刘珠明
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;材料科学;
【研究方向】 电子束曝光机电子光学系统和电气系统研究
【发表文献关键词】 偏转器,静电偏转器,电子束曝光机,优化,像差,二阶有限元,动态校正,偏转系统,优化设计,偏转场,双偏转,磁偏转器,束斑,透镜,偏转,扫描场,曝光机,物镜,纳米级,鞍形,A型,八极,电子轨迹,放电路,电...
【工作单位】 中国科学院电工研究所
【曾工作单位】 中国科学院电工研究所;
【所在地域】 北京
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[2]石宏开;王新伟;郑利兵;孙方远;刘珠明;.基于热反射法的微纳结构热扫描技术研究[J]热科学与技术.2019,(02)
[3]田菁;万世松;魏淑华;郑利兵;刘珠明;.基于热反射的热物性测量系统中光束稳定控制组件设计与实现[J]电子世界.2019,(20)
[4]秦东风;高展;魏淑华;刘珠明;孙方远;.基于LabVIEW的热物性测量仪控制系统研制[J]电子世界.2018,(01)
[5]刘珠明,顾文琪,李艳秋.DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计[J]微细加工技术.2004,(01)
[6]刘珠明,顾文琪.电子束曝光机的偏转系统[J]光电工程.2004,(12)
[7]刘珠明,顾文琪.衍射现象对高精度偏转器设计的影响[J]光学技术.2005,(06)
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