万青
【姓名】 万青
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】 硅基功能材料与器件的研究
【发表文献关键词】 PLD,PZT,过渡层,硅纳米锥,电子束蒸发,ZrO2薄膜,薄膜物理学,衬底温度,电学性能,场发射,硅锥,Al2O3,脉冲激光沉积法,PZT薄膜,纳米,PZT铁电薄膜,脉冲激光法,结晶结构,场发射性能...
【工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海微系统与信息技术研究所;
【所在地域】 上海
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[1]章宁琳,宋志棠,邢溯,万青,林成鲁.准分子脉冲激光沉积法制备的ZrO_2薄膜结构和电学性能的研究[J]中国激光.2003,(04)
[2]谢欣云,万青,林青,沈勤我,林成鲁.电子束蒸发制备纳米硅锥及其场发射性能研究[J]功能材料与器件学报.2003,(02)
[3]万青,王连卫,邢朔,章宁琳,沈勤我,林成鲁.以Al_2O_3为过渡层脉冲激光法制备PZT铁电薄膜[J]功能材料与器件学报.2002,(02)
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