刘正堂
【姓名】 刘正堂
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 功能材料及微纳米结构的制备及性能研究
【发表文献关键词】 沉积速率,氮化硅薄膜,磁控反应溅射,蓝宝石,CVD金刚石,增透,氧化现象,纳米复相陶瓷,高温强度,蓝宝石衬底,透过率,镀膜法,溅射气压,磁控溅射,溅射功率,Au导电薄膜,CdZnTe半导体,欧姆接触,...
【工作单位】 西北工业大学
【曾工作单位】 西北工业大学;
【所在地域】 西安
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