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追踪极紫外光刻技术的出现:识别、保护和推广下一代新兴技术的经验教训
Tracing the Emergence of Extreme Ultraviolet Lithography——Lessons for Identifying, Protecting, and Promoting the Next Emerging Technology
【摘要】 极紫外（EUV）光刻是近年来半导体行业出现的最重要的技术。本报告对其从20世纪80年代至今的发展进行了案例研究，使用文献计量数据，详细介绍了关于其研究的演变，以及在长达数十年的商业化道路上取得的许多科学突破，最后为有意保护和促进下一代新兴技术的政策制定者提供了经验教训。
- 【文献出处】 智能物联技术 ,Technology of IoT & AI , 编辑部邮箱 ,2025年01期
- 【分类号】TN305.7
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